【三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2高温.Si+2CO↑2C+SiO2高温.Si+2CO↑（2）上述生产流】

问题：【三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2高温.Si+2CO↑2C+SiO2高温.Si+2CO↑（2）上述生产流】

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丁婷婷的回答：

网友采纳　　（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，根据质量守恒定律，碳的低价化合物应是一氧化碳，反应的化学方程式是：2C+SiO2 高温 . Si+2CO↑．（2）上述生产流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高纯...